台積電二奈米製程今年開始量產，且預計二○二七年在台灣將有七座先進製程新晶圓廠投產，半導體特用化學品的需求將大增，哪些台廠將受惠？
半導體製程需使用多種特用化學品，愈先進的製程，對特用化學品的純度要求愈高，不容許有任何雜質或汙染，也就墊高了技術門檻。以往台積電（二三三○）主要依賴日、美大廠供應，近年台廠比重漸增，預計到二○三○年更將達七成，加上二奈米製程今年正式量產，也讓特化一族的受惠程度更受關注。
其中，新應材（四七四九）從面板材料積極轉型，已成為台積電先進製程微影特化材料重要供應商，是本土唯一可供應適用於二及三奈米製程的「晶圓表面改質劑」（Rinse）、可優化用於提高圖形解析度的「底部抗反射層」（BARC），以及在顯影後用來清洗光阻殘留物的「洗邊劑」（EBR）。
