今周刊編按：《路透》周三 (17 日) 獨家報導，中國造出最先進半導體晶片的極紫外光微影(EUV)原型機！在中國深圳由一支曾任職於艾司摩爾 (ASML) 工程師團隊打造，透過逆向工程仿製ASML的EUV)設備。EUV 被視為當前晶片製造的技術制高點，能將電路蝕刻至比人類頭髮還細上數千倍，長期由西方國家壟斷。目前中國EUV 原型機已能成功產生極紫外光，但尚未實際生產可用晶片。ASML 執行長福克 (Christophe Fouquet) 今年4月曾表示，中國要掌握這項技術仍需「很多、很多年」，但這項最新進展顯示，中國距離半導體自主化的時間，可能比外界預期來得更近。
日期：2025-12-18
