(今周刊1491)
台積電二奈米良率衝上七成，領先三星至少三年，穩坐先進製程龍頭。
從技術、研發到客戶布局，台積電憑五大獨有特色，持續拉大與對手的差距。
「台積電二奈米良率接近七○％，三星也計畫在下半年量產的二奈米，良率則只有三○％至四○％。」韓國媒體《每日經濟》六月擔憂指出，三星三奈米推出三年，仍未達量產的良率六○％門檻，無法突破之前，重建韓國晶圓代工事業非常困難。
二○二二年三星率先於三奈米製程，導入次世代的環繞式閘極（GAAFET） 電晶體架構，同年台積電三奈米則沿用鰭式架構（FinFET），外界擔憂台積電競爭力落後，每季法說會上都在詢問台積電導入時程。
後發先至：專注製造、服務導向
先進製程需求大 市場接單爆滿
沒想到三年後，台積電後發先至，宣告二五年下半年量產的二奈米製程，導入GAAFET，良率七成的成績，更一舉拉大與三星的距離，領先至少三年。
由於全球半導體產值的驅動，主力來自先進製程需求，包括手機、電腦、AI伺服器、智慧型消費裝置等應用，只要年年都有新款產品問世，先進製程市場需求就會在。
台經院產經資料庫總監劉佩真表示，當三星在三奈米良率遇到瓶頸，技術領域勁敵的英特爾，18A製程也尚未量產，台積電成為全球唯一能夠提供最先進製程的公司，「這自然造就出台積電接單爆滿情形。」
