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英特爾曝未來五年製程工藝藍圖 三年後追上台積? 兩大半導體天王製程、補助、股價比拚!

英特爾曝未來五年製程工藝藍圖 三年後追上台積? 兩大半導體天王製程、補助、股價比拚!
英特爾執行長蓋爾辛格近來發 表未來5年製程技術發展藍圖, 目標是2024年追上台積電。

林宏文

科技

Intel提供

1286期

2021-08-11 14:07

英特爾日前更新製程技術命名,把原來預定量產的時程都往前提,計畫在二○二四年量產二奈米並追上台積電。
兩大半導體龍頭未來的競爭態勢,將是全球半導體業最值得重視的大事。

英特爾七月二十六日更新製程技術發展藍圖的節點命名,並且把原來預定量產的時程全部提前,計畫在二○二四年量產二奈米。這個宣示,意味著英特爾這家半導體業巨擘,終於擬定追趕台積電,補足落後三年差距的目標。未來,台積電與英特爾兩大半導體龍頭的競爭態勢,將是全球半導體業重要大事。

 

雖然八月十日報載一則消息,指出英特爾將自二○二二年第二季開始,投片台積電,量產最先進三奈米製程,但這新聞立刻遭半導體權威分析師陸行之提出疑問,認為此與台積先前公布的製程量產進程、英特爾產品規畫時程對不上。卻也可見市場對兩家公司競合的高度關切。

 

過去五年,是英特爾發展史中很辛苦的一段期間,不僅製程技術明顯落後台積電、三星,核心CPU市占也拱手讓出一大塊給勁敵超微(AMD),另外在手機晶片發展也失敗。這段期間的執行長表現確實也平淡無奇,科再奇(Brian Krzanich)於一八年突然辭職,繼任的史旺(Bob Swan)出身財務,聚焦的策略是降低成本,買回股票比投入研發更積極,直到今年二月蓋爾辛格(Pat Gelsinger)上任,才終於出現轉機。

 

此次英特爾更新製程技術命名,並公布未來五年技術發展時程,主要是過去台積電、三星、英特爾三大半導體廠對相同技術節點數字的電晶體密度、線寬上各有不同說法,造成許多比較上的困難。

 

因此,英特爾修正製程節點命名,改用和台積電同樣標準,例如英特爾在10nm(奈米)之後的技術,原稱作10nm SuperFin,此次改名為7nm;原本的七奈米就改名為「Intel 4」,並新增「Intel 3」製程節點,之後則是「Intel 20A」及「Intel 18A」。

 

其中,Intel 4、Intel 3接近台積電及三星的五奈米及三奈米,至於20A(埃米,Angstrom)就是二奈米,而二奈米後的一.八奈米,就改成二十埃米後還有十八埃米,使得進奈米後的技術競賽,都可以統一各未來先進製程技術名稱來區分辨別。

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