半導體生產設備大廠艾司摩爾（ASML）上周宣布，英特爾成為首家下訂最先進的高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備的客戶。雙方突大動作宣布合作引起市場熱議，韓媒則認為英特爾此舉是想要降低市場對其晶圓代工技術的質疑。
南韓經濟日報報導，英特爾訂購EUV曝光設備比台積電3奈米製程的EUV設備更為先進，不少專家認為，英特爾可能會透過這些設備生產2奈米製程晶片，英特爾也在聲明中表示，新一代的EUV機台可使晶圓製造速率每小時將超過 200片，是發展先進製程的重要一環。
英特爾與艾司摩爾大動作公開雙方合作計畫，報導引述市場人士意見指出，英特爾在先進製程的腳步並不穩定，突然宣布合作關係，目的是減少市場對英特爾技術質疑的壓力，但最終是否能夠如英特爾所願還有待觀察。
此外，由於英特爾成為艾司摩爾最先進製造設備的首位客戶，投資研究機構Semiconductor Advisors分析師Robert Maire認為，如果英特爾可以搶先採用這些工具，可能是在摩爾定律的競賽當中，有機會超車台積電的好機會。
※本文授權自中時新聞網，原文見此。
.jpg_280x210.jpg)